系科
SYSCOS INSTRUMENTS
【光谱椭偏】Syscos Spectroscopic Ellipsometer
【应用领域】
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上海系科【Syscos】目前提供两种系列的光谱椭偏系统：RISE-Zenith及RISE-100。
RISE-Zenith采用旋转单补偿器光学结构（PSCrA）与旋转起偏器（PrSCA）原理相结合，代表着系科公司光谱椭偏技术的最高水准，拥有多项核心专利，所有硬件配置均为国际顶尖，历时数年开发测试，具有出色的稳定性。
RISE-100采用旋转起偏器的光学结构（PrSA），可配置成固定入射角度及自动可变入射角度两种硬件结构，用以满足用户的低成本需求。
两种系列的光谱椭偏仪均采用系科公司历时数年开发并完善的ElliSpec软件系统。该软件系统几乎具备所有椭偏分析功能，可以说，代表着国内的最高水准。
【测量内容】
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【Syscos 光谱椭偏】
- 宽光谱椭偏仪
- 近红外（NIR）椭偏仪
- 自动可变入射角度椭偏仪
- 双补偿型椭偏仪（提取16个穆勒矩阵元素）
- 离线/在线 测量 椭偏仪
- 在位/ 离位 测量 椭偏仪
- 小面积 / 大面积 mapping椭偏仪
【激光椭偏】Syscos Laser Ellipsometer
【应用领域】
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上海系科【Syscos】目前提供两种系列的光谱椭偏系统：LE-M5及SE5000，两种均为客户提供低成本应用。
LE-M5采用旋转单补偿器光学结构（PSCrA）与旋转起偏器（PrSCA）原理相结合，采用632.8nm半导体激光器，能在1S内完成单层镀膜的测量，具有出色的稳定性。
SE5000采用旋转单补偿器光学结构（PSCrA）与旋转起偏器（PrSCA）原理相结合，日本滨松Hamamatsu PMT作为探测器，具有极高的重复性与长时稳定性。
【Syscos激光椭偏】
- 可变入射角度 激光椭偏仪
- 在位/ 离位 测量 激光椭偏仪
- 双波长 激光椭偏仪
- X-y mapping 激光椭偏仪
【测量内容】
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【反射式膜厚仪】
【应用领域】
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上海系科【Syscos】目前提供一种反射式膜厚仪系统：FRT100，但系统相应波长用户可自主选择。
FRT100利用白光的反射光谱，测量透明或吸收衬底上的透明或吸收膜的厚度，为用户提供了一种最为低成本的非接触测量方案。
FRT100还可以与光谱椭偏仪形成组合工作。FRT具备高性能、坚固可靠的结构，以及出色的软件系统，广泛应用于半导体、玻璃、金属片的镀膜测量。
【Syscos 反射仪】
- 在位/ 离位 测量 反射仪
- 大面积扫描 反射仪
【测量内容】
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